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Abstract

Mit niederenergetischer Elektronenmikroskopie und lokaler Fotoelektronenspektroskopie wurde die Bildung von Wasser aus absorbierten O und H₂ auf einer Ru(0001)‐Oberfläche untersucht, die mit einer glasartigen SiO₂‐Bilage (BL) bedeckt war, und mit der gleichen Reaktion auf der reinen Ru(0001)‐Oberfläche verglichen. In beiden Fällen tritt eine fortschreitende Reaktionsfront auf. Der Grund hierfür kann mit der Anforderung zusammenhängen, dass die O‐Adatome Platz freigeben müssen, damit weiterer H₂ dissoziativ adsorbiert. Wir finden scheinbare Aktivierungsenergien (E_a^app) für die Frontbewegung von 0.59 eV ohne Deckschicht und 0.27 eV mit Deckschicht. Wir schlagen vor, dass bei der SiO₂‐BL‐bedeckten Ru(0001)‐Oberfläche die geringere Aktivierungsenergie aber höhere Reaktionstemperatur durch eine Änderung des geschwindigkeitsbestimmenden Schritts verursacht wird. Weitere mögliche Auswirkungen der Deckschicht werden diskutiert. Unsere Resultate ergeben die ersten Werte für E_a^app im eingegrenzten Raum (“confinement”).