Cs-Doped Mo as Surface Converter for H-/D- Generation in Negative Ion Sources: 
First Steps and Proof of Principle

Schiesko, L.; Cartry, G.; Hopf, C.; Höschen, T.; Meisl, G.; Encke, O.; Franzen, P.; Heinemann, B.; Achkasov, K.; Hopf, C.; Fantz, U.

doi:10.1063/1.4916412

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT

Zur Ablage hinzufügen

Bitte beachten Sie, dass eine neuere Version dieses Datensatzes verfügbar ist:
https://pure.mpg.de/pubman/item/item_2226338_7

DetailsÜbersicht

Freigegeben

Zeitschriftenartikel

Cs-Doped Mo as Surface Converter for H^-/D^- Generation in Negative Ion Sources: First Steps and Proof of Principle

MPG-Autoren

/persons/resource/persons110357

Schiesko, L.
ITER Technology & Diagnostics (ITED), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons109440

Hopf, C.
ITER Technology & Diagnostics (ITED), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons109412

Höschen, T.
Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons109927

Meisl, G.
Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons130337

Encke, O.
Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons109107

Franzen, P.
ITER Technology & Diagnostics (ITED), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons109347

Heinemann, B.
ITER Technology & Diagnostics (ITED), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons109440

Hopf, C.
ITER Technology & Diagnostics (ITED), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons109061

Fantz, U.
ITER Technology & Diagnostics (ITED), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

Externe Ressourcen

http://dx.doi.org/10.1063/1.4916412
(Verlagsversion)

Volltexte (beschränkter Zugriff)

Für Ihren IP-Bereich sind aktuell keine Volltexte freigegeben.

Volltexte (frei zugänglich)

Schiesko_CsDoped.pdf
(beliebiger Volltext), 216KB

Ergänzendes Material (frei zugänglich)

Es sind keine frei zugänglichen Ergänzenden Materialien verfügbar

Zitation

Schiesko, L., Cartry, G., Hopf, C., Höschen, T., Meisl, G., Encke, O., et al. (2015). Cs-Doped Mo as Surface Converter for H^-/D^- Generation in Negative Ion Sources: First Steps and Proof of Principle. AIP Conference Proceedings, 1655: 020003. doi:10.1063/1.4916412.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-FBA1-5

Zusammenfassung

Es ist keine Zusammenfassung verfügbar