Rapid prototyping of Fresnel zone plates via direct Ga+ ion beam lithography 
for high-resolution x-ray imaging

Keskinbora, K.; Grévent, C.; Eigenthaler, U.; Weigand, M.; Schütz, G.

doi:10.1021/nn403295k

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Rapid prototyping of Fresnel zone plates via direct Ga⁺ ion beam lithography for high-resolution x-ray imaging

MPG-Autoren

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Keskinbora, K.
Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Grévent, C.
Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Eigenthaler, U.
Scientific Staff Assembly Dual Beam, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Weigand, M.
Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons76085

Schütz, G.
Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Zitation

Keskinbora, K., Grévent, C., Eigenthaler, U., Weigand, M., & Schütz, G. (2013). Rapid prototyping of Fresnel zone plates via direct Ga⁺ ion beam lithography for high-resolution x-ray imaging. ACS Nano, 7(11), 9788-9797. doi:10.1021/nn403295k.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0015-35CA-D

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