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Konferenzbeitrag

Effect of chemical etching on poly(methyl methacrylate) irradiated with slow highly charged ions

MPG-Autoren
http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons30515

Ginzel,  Rainer
Division Prof. Dr. Joachim H. Ullrich, MPI for Nuclear Physics, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons30383

Crespo López-Urrutia,  José R.
Division Prof. Dr. Joachim H. Ullrich, MPI for Nuclear Physics, Max Planck Society;

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Zitation

Ritter, R., Wilhelm, R. A., Ginzel, R., Schadauer, P., Heller, R., Rupp, W., et al. (2013). Effect of chemical etching on poly(methyl methacrylate) irradiated with slow highly charged ions. Physica Scripta T, 156: 014065, 1-3. doi:10.1088/0031-8949/2013/T156/014065.


Zitierlink: http://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0014-BB17-9
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