de.mpg.escidoc.pubman.appbase.FacesBean
Deutsch
 
Hilfe Wegweiser Impressum Kontakt Einloggen
  DetailsucheBrowse

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT

Freigegeben

Zeitschriftenartikel

SU-8: a photoresist for high-aspect-ratio and 3D submicron lithography

MPG-Autoren
http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons75391

del Campo,  A.
Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons75523

Greiner,  C.
Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

Externe Ressourcen
Es sind keine Externen Ressourcen verfügbar
Volltexte (frei zugänglich)
Es sind keine frei zugänglichen Volltexte verfügbar
Ergänzendes Material (frei zugänglich)
Es sind keine frei zugänglichen Ergänzenden Materialien verfügbar
Zitation

del Campo, A., & Greiner, C. (2007). SU-8: a photoresist for high-aspect-ratio and 3D submicron lithography. Journal for Micromechanics and Microengineering, 17(6), R81-R95.


Zitierlink: http://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-43AB-D
Zusammenfassung
Es ist keine Zusammenfassung verfügbar