Deutsch
 
Hilfe Datenschutzhinweis Impressum
  DetailsucheBrowse

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT

Freigegeben

Zeitschriftenartikel

Oxidation and reduction of ultrathin nanocrystalline Ru films on silicon: model system for Ru-capped extreme ultraviolet lithography optics

MPG-Autoren
/persons/resource/persons75567

He,  Y.B
Dept. Metastable and Low-Dimensional Materials, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons76157

Stierle,  A.
Former Central Scientific Facility ANKA Synchroton Beamline, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons75658

Kasper,  N.
Dept. Metastable and Low-Dimensional Materials, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

Externe Ressourcen
Es sind keine externen Ressourcen hinterlegt
Volltexte (beschränkter Zugriff)
Für Ihren IP-Bereich sind aktuell keine Volltexte freigegeben.
Volltexte (frei zugänglich)
Es sind keine frei zugänglichen Volltexte in PuRe verfügbar
Ergänzendes Material (frei zugänglich)
Es sind keine frei zugänglichen Ergänzenden Materialien verfügbar
Zitation

He, Y., Goriachko, A., Korte, C., Farkas, A., Mellau, G., Dudin, P., et al. (2007). Oxidation and reduction of ultrathin nanocrystalline Ru films on silicon: model system for Ru-capped extreme ultraviolet lithography optics. Journal of Physical Chemistry C, 111(24), 10988-10992.


Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-42A9-E
Zusammenfassung
Es ist keine Zusammenfassung verfügbar