Sub-0.5 eV EFTEM mapping using the Zeiss SESAM

Koch, C. T.; Sigle, W.; Nelayah, J.; Gu, L.; Srot, V.; van Aken, P. A.

doi:10.1007/978-3-540-85226-1_224

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Sub-0.5 eV EFTEM mapping using the Zeiss SESAM

MPG-Autoren

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Koch, C. T.
Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;
Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons76113

Sigle, W.
Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;
Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Nelayah, J.
Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons75535

Gu, L.
Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons76143

Srot, V.
Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;
Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons76219

van Aken, P. A.
Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Zitation

Koch, C. T., Sigle, W., Nelayah, J., Gu, L., Srot, V., & van Aken, P. A. (2008). Sub-0.5 eV EFTEM mapping using the Zeiss SESAM. In M. Luysberg, K. Tillmann, & T. Weirich (Eds.), EMC2008, 14th European Microscopy Congress, Vol. 1: Instrumentation and Methods (pp. 447-448). Berlin [et al.]: Springer.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-40F0-B

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