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Zeitschriftenartikel

Non-ambient X-ray diffraction residual stress analysis of thin films: tracing nanosize-related effects on thermoelastic constants and identifying sources of residual stresses

MPG-Autoren
http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons75742

Kuru,  Y.
Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons76299

Wohlschlögel,  M.
Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons76284

Welzel,  U.
Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons75858

Mittemeijer,  E. J.
Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;
Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft;

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Zitation

Kuru, Y., Wohlschlögel, M., Welzel, U., & Mittemeijer, E. J. (2008). Non-ambient X-ray diffraction residual stress analysis of thin films: tracing nanosize-related effects on thermoelastic constants and identifying sources of residual stresses. Journal of Applied Crystallography, 41, 428-435.


Zitierlink: http://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-40B5-F
Zusammenfassung
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