Chemical bath deposition of thin TiO2-anatase films for dielectric applications

Zhou, L.; Hoffmann, R. C.; Zhao, Z.; Bill, J.; Aldinger, F.

doi:10.1016/j.tsf.2008.02.042

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Chemical bath deposition of thin TiO₂-anatase films for dielectric applications

MPG-Autoren

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Zhou, L.
Former Dept. Materials Synthesis and Microstructure Design, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Hoffmann, R. C.
Former Dept. Materials Synthesis and Microstructure Design, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons75211

Aldinger, F.
Former Dept. Materials Synthesis and Microstructure Design, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;
Universität Stuttgart, Institut für Nichtmetallische Anorganische Materialien;

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Zitation

Zhou, L., Hoffmann, R. C., Zhao, Z., Bill, J., & Aldinger, F. (2008). Chemical bath deposition of thin TiO₂-anatase films for dielectric applications. Thin Solid Films, 516, 7661-7666. doi:10.1016/j.tsf.2008.02.042.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3FC1-B

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