Atomic structure and bonding of epitaxial Cu films on (110) a-Al2O3.

Scheu, C.; Stein, W.; Schweinfest, R.; Wagner, T.; Rühle, M.

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Konferenzbeitrag

Atomic structure and bonding of epitaxial Cu films on (110) a-Al₂O₃.

MPG-Autoren

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Scheu, C.
Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Stein, W.
Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Schweinfest, R.
Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons76249

Wagner, T.
Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons76016

Rühle, M.
Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Zitation

Scheu, C., Stein, W., Schweinfest, R., Wagner, T., & Rühle, M. (2000). Atomic structure and bonding of epitaxial Cu films on (110) a-Al₂O₃. In G. Bailey (Ed.), Proceedings Microscopy and Microanalysis 2000 (pp. 182-183). New York: Springer.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3840-3

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