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Konferenzbeitrag

The effect of film thickness on stress and transformation behavior in cobalt thin films

MPG-Autoren
/persons/resource/persons75580

Hesemann,  H.
Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons75879

Müllner,  P.
Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons75712

Kraft,  O.
Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons75228

Arzt,  E.
Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;
Universität Stuttgart, Institut für Metallkunde;

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Zitation

Hesemann, H., Müllner, P., Kraft, O., & Arzt, E. (2000). The effect of film thickness on stress and transformation behavior in cobalt thin films. In R. Vinci (Ed.), Thin Films - Stresses and Mechanical Properties VIII (pp. 219-224). Pittsburgh, Pa.: MRS.


Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-37B6-1
Zusammenfassung
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