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Zeitschriftenartikel

Growth of electromigration-induced hillocks in Al interconnects

MPG-Autoren
http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons75903

Nucci,  J. A.
Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons76162

Straub,  A.
Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons75288

Bischoff,  E.
Former Central Scientific Facility Metallography, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;
Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons75228

Arzt,  E.
Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;
Universität Stuttgart, Institut für Metallkunde;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons76232

Volkert,  C. A.
Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Zitation

Nucci, J. A., Straub, A., Bischoff, E., Arzt, E., & Volkert, C. A. (2002). Growth of electromigration-induced hillocks in Al interconnects. Journal of Materials Research, 17(10), 2727-2735.


Zitierlink: http://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2FE6-B
Zusammenfassung
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