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Konferenzbeitrag

Constrained grain boundary diffusion in thin copper films

MPG-Autoren
/persons/resource/persons75329

Buehler,  M. J.
Former Dept. Theory of Mesoscopic Phenomena, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons75561

Hartmaier,  A.
Former Dept. Theory of Mesoscopic Phenomena, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons75481

Gao,  H.
Former Dept. Theory of Mesoscopic Phenomena, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Zitation

Buehler, M. J., Hartmaier, A., & Gao, H. (2004). Constrained grain boundary diffusion in thin copper films. In P. M. Anderson, T. Foecke, A. Misra, & R. E. Rudd (Eds.), Nanoscale Materials and Modeling - Relations Among Processing, Microstructure and Mechanical Properties (pp. 8.2.1-8.2.6). Warrendale, PA: Materials Research Society.


Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2B03-5
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