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Zeitschriftenartikel

Near-Field Lithography by Two-Photon-Induced Photocleavage of Organic Monolayers

MPG-Autoren
http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons47575

Alvarez,  M.
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons47641

Best,  A.
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons48897

Unger,  A.
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons47765

del Campo,  Aranzazu
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons48708

Schmelzeisen,  M.
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons48218

Koynov,  Kaloian
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons48224

Kreiter,  Max
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

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Zitation

Alvarez, M., Best, A., Unger, A., Alonso, J. M., del Campo, A., Schmelzeisen, M., et al. (2010). Near-Field Lithography by Two-Photon-Induced Photocleavage of Organic Monolayers. Advanced Functional Materials, 20(24), 4265-4272.


Zitierlink: http://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-7432-8
Zusammenfassung
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