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Zeitschriftenartikel

Highly sensitive resist material for deep X-ray lithography

MPG-Autoren
http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons48459

Müllen,  Klaus
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons48712

Schmidt,  M.
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

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Zitation

Schenk, R., Halle, O., Müllen, K., Ehrfeld, W., & Schmidt, M. (1997). Highly sensitive resist material for deep X-ray lithography. Microelectronic Engineering, 35(1-4), 105-108.


Zitierlink: http://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-5A02-4
Zusammenfassung
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