de.mpg.escidoc.pubman.appbase.FacesBean
Deutsch
 
Hilfe Wegweiser Impressum Kontakt Einloggen
  DetailsucheBrowse

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT

Freigegeben

Zeitschriftenartikel

Microstructuring of Molecularly Thin Polymer Layers by Photolithography

MPG-Autoren
http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons48607

Prucker,  O.
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons48198

Knoll,  Wolfgang
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

http://pubman.mpdl.mpg.de/cone/persons/resource/persons48674

Rühe,  Jürgen
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

Externe Ressourcen
Es sind keine Externen Ressourcen verfügbar
Volltexte (frei zugänglich)
Es sind keine frei zugänglichen Volltexte verfügbar
Ergänzendes Material (frei zugänglich)
Es sind keine frei zugänglichen Ergänzenden Materialien verfügbar
Zitation

Prucker, O., Schimmel, M., Tovar, G., Knoll, W., & Rühe, J. (1998). Microstructuring of Molecularly Thin Polymer Layers by Photolithography. Advanced Materials, 10, 1073-1077.


Zitierlink: http://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-5658-4
Zusammenfassung
Es ist keine Zusammenfassung verfügbar