Thin film plasma deposition of allylamine; Effects of solvent treatment

van Os, M. T.; Menges, B.; Förch, Renate; Knoll, Wolfgang; Timmons, R. B.; Vancso, G. J.

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Thin film plasma deposition of allylamine; Effects of solvent treatment

MPS-Authors

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Menges, B.
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

/persons/resource/persons47885

Förch, Renate
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

/persons/resource/persons48198

Knoll, Wolfgang
MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

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引用

van Os, M. T., Menges, B., Förch, R., Knoll, W., Timmons, R. B., & Vancso, G. J. (1999). Thin film plasma deposition of allylamine; Effects of solvent treatment. In W. W., Lee, R., d’Agostino, M. R., Wertheimer, & B. D., Ratner (Eds.), Plasma Deposition and Treatment of Polymers (pp. 45-50). Warrendale, PA: Materials Research Society.

引用: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-54D4-B

要旨

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