Deutsch
 
Hilfe Datenschutzhinweis Impressum
  DetailsucheBrowse

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT
  Microstructure and intrinsic stress evolution during epitaxial film growth of an Ag0.93Al0.07 solid solution on Si(111); excessive planar faulting due to quantum confinement

Flötotto, D., Wang, Z. M., Markel, I., Kurz, S., & Mittemeijer, E. J. (2016). Microstructure and intrinsic stress evolution during epitaxial film growth of an Ag0.93Al0.07 solid solution on Si(111); excessive planar faulting due to quantum confinement. Journal of Applied Crystallography, 120(15): 155305. doi:10.1063/1.4964945.

Item is

Externe Referenzen

einblenden:

Urheber

einblenden:
ausblenden:
 Urheber:
Flötotto, David1, Autor           
Wang, Z. M.2, Autor
Markel, Ingo1, Autor           
Kurz, Silke1, Autor           
Mittemeijer, Eric Jan1, 3, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2School of Materials Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin 300350, China, ou_persistent22              
3Institut für Materialwissenschaft, Universität Stuttgart, Heisenbergstraße 3, 70569 Stuttgart, Germany, ou_persistent22              

Inhalt

einblenden:
ausblenden:
Schlagwörter: Abt. Mittemeijer
 Zusammenfassung: -

Details

einblenden:
ausblenden:
Sprache(n): eng - English
 Datum: 2016-10-202016
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1063/1.4964945
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

einblenden:

Entscheidung

einblenden:

Projektinformation

einblenden:

Quelle 1

einblenden:
ausblenden:
Titel: Journal of Applied Crystallography
  Kurztitel : J. Appl. Cryst.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Oxford, England : Blackwell Publishing on behalf of the International Union of Crystallography
Seiten: - Band / Heft: 120 (15) Artikelnummer: 155305 Start- / Endseite: - Identifikator: ISSN: 0021-8898
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925410812