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  Electronic structure and symmetry of valence states of epitaxial NiTiSn and NiZr0.5Hf0.5Sn thin films by hard x-ray photoelectron spectroscopy

Kozina, X., Jaeger, T., Ouardi, S., Gloskowskij, A., Stryganyuk, G., Jakob, G., Sugiyama, T., Ikenaga, E., Fecher, G. H., & Felser, C. (2011). Electronic structure and symmetry of valence states of epitaxial NiTiSn and NiZr0.5Hf0.5Sn thin films by hard x-ray photoelectron spectroscopy. Applied Physics Letters, 99(22):, pp. 221908-1-221908-3. doi:10.1063/1.3665621.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Kozina, X., 著者
Jaeger, T., 著者
Ouardi, S.1, 著者           
Gloskowskij, A., 著者
Stryganyuk, G., 著者
Jakob, G., 著者
Sugiyama, T., 著者
Ikenaga, E., 著者
Fecher, G. H.2, 著者           
Felser, C.3, 著者           
所属:
1Siham Ouardi, Inorganic Chemistry, Max Planck Institute for Chemical Physics of Solids, Max Planck Society, ou_1863439              
2Gerhard Fecher, Inorganic Chemistry, Max Planck Institute for Chemical Physics of Solids, Max Planck Society, ou_1863431              
3Claudia Felser, Inorganic Chemistry, Max Planck Institute for Chemical Physics of Solids, Max Planck Society, ou_1863429              

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2011-11-30
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: -
 識別子(DOI, ISBNなど): eDoc: 576545
DOI: 10.1063/1.3665621
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Applied Physics Letters
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 99 (22) 通巻号: 221908 開始・終了ページ: 221908-1 - 221908-3 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): ISSN: 0003-6951