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  Morphology and microstructure of the Ar+ion sputtered (0001)α-Al2O3 surface

Akatsu, T. C., Scheu, C., Wagner, T., Gemming, T., Hosoda, N., Suga, T., et al. (2000). Morphology and microstructure of the Ar+ion sputtered (0001)α-Al2O3 surface. Applied Surface Science, 165, 159-165.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Akatsu, T. C., Autor
Scheu, C.1, Autor           
Wagner, T.2, Autor           
Gemming, T.1, Autor           
Hosoda, N.3, Autor           
Suga, T., Autor
Rühle, M.1, Autor           
Affiliations:
1Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657              
2Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640              
3Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Rühle; Abt. Arzt; ZWE Dünnschichtlabor;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n):
 Datum: 2000
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 42962
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Applied Surface Science
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 165 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 159 - 165 Identifikator: -