Deutsch
 
Hilfe Datenschutzhinweis Impressum
  DetailsucheBrowse

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT
Zur Ablage hinzufügen
 Lokale TagsFreigabegeschichteDetailsÜbersicht
  Near-Field Lithography by Two-Photon-Induced Photocleavage of Organic Monolayers

Alvarez, M., Best, A., Unger, A., Alonso, J. M., del Campo, A., Schmelzeisen, M., et al. (2010). Near-Field Lithography by Two-Photon-Induced Photocleavage of Organic Monolayers. Advanced Functional Materials, 20(24), 4265-4272.

Item is

 

einblenden: alle ausblenden: alle

Basisdaten

einblenden: ausblenden:
Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-7432-8 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-7433-6
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

einblenden:

Urheber

einblenden:
ausblenden:
 Urheber:
Alvarez, M.1, Autor           
Best, A.1, Autor           
Unger, A.1, Autor           
Alonso, J. M., Autor
del Campo, Aranzazu1, Autor           
Schmelzeisen, M.1, Autor           
Koynov, Kaloian1, Autor           
Kreiter, Max1, Autor           
Affiliations:
1MPI for Polymer Research, Max Planck Society, ou_1309545              

Inhalt

einblenden:

Details

einblenden:
ausblenden:
Sprache(n): eng - English
 Datum: 2010
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 528706
Anderer: P-10-343
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

einblenden:

Entscheidung

einblenden:

Projektinformation

einblenden:

Quelle 1

einblenden:
ausblenden:
Titel: Advanced Functional Materials
  Alternativer Titel : Adv. Funct. Mater.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 20 (24) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 4265 - 4272 Identifikator: -