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Datensatz

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  Near-Field Lithography by Two-Photon-Induced Photocleavage of Organic Monolayers

Alvarez, M., Best, A., Unger, A., Alonso, J. M., del Campo, A., Schmelzeisen, M., et al. (2010). Near-Field Lithography by Two-Photon-Induced Photocleavage of Organic Monolayers. Advanced Functional Materials, 20(24), 4265-4272.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: http://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-7432-8 Versions-Permalink: http://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-7433-6
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Alvarez, M.1, Autor              
Best, A.1, Autor              
Unger, A.1, Autor              
Alonso, J. M., Autor
del Campo, Aranzazu1, Autor              
Schmelzeisen, M.1, Autor              
Koynov, Kaloian1, Autor              
Kreiter, Max1, Autor              
Affiliations:
1MPI for Polymer Research, Max Planck Society, escidoc:1309545              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - Englisch
 Datum: 2010
 Publikationsstatus: Im Druck publiziert
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 528706
Anderer: P-10-343
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Advanced Functional Materials
  Alternativer Titel : Adv. Funct. Mater.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 20 (24) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 4265 - 4272 Identifikator: -