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  Single and multiple profile fitting of AES and XPS intensity-depth profiles for analysis of interdiffusion in thin films

Noah, M., Flötotto, D., Wang, Z., & Mittemeijer, E. J. (2014). Single and multiple profile fitting of AES and XPS intensity-depth profiles for analysis of interdiffusion in thin films. Surface and Interface Analysis, 46, 1057-1063. doi:10.1002/sia.5369.

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Urheber

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 Urheber:
Noah, Martin1, Autor           
Flötotto, David1, Autor           
Wang, Zumin1, Autor           
Mittemeijer, Eric Jan1, 2, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2Institut für Materialwissenschaft, Universität Stuttgart, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: Abt. Mittemeijer
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2014
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1002/sia.5369
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Surface and Interface Analysis
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: New York, NY : John Wiley & Sons
Seiten: - Band / Heft: 46 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 1057 - 1063 Identifikator: ISSN: 0142-2421
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925471358