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  Strain mapping for advanced CMOS technologies

Özdöl, V. B., Tyutyunnikov, D., Koch, C. T., & van Aken, P. A. (2014). Strain mapping for advanced CMOS technologies. Crystal Research and Technology, 49(1), 38-42. doi:10.1002/crat.201300226.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Özdöl, V. B.1, Autor
Tyutyunnikov, D.2, Autor           
Koch, C. T.3, Autor
van Aken, P. A.2, Autor           
Affiliations:
1National Center for Electron Microscopy, Lawrence Berkeley National Laboratory, One Cyclotron Road, MS 72, Berkeley, CA, 94720, USA, ou_persistent22              
2Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669              
3Institute for Experimental Physics, Ulm University, Albert- Einstein-Allee 11, D-89081, Ulm, Germany, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: StEM
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2014-01-152014
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: 5
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1002/crat.201300226
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Crystal Research and Technology
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Berlin, Fed. Rep. of Germany : Wiley-VCH
Seiten: - Band / Heft: 49 (1) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 38 - 42 Identifikator: ISSN: 0232-1300
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954928496432