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  Effect of chemical etching on poly(methyl methacrylate) irradiated with slow highly charged ions

Ritter, R., Wilhelm, R. A., Ginzel, R., Schadauer, P., Heller, R., Rupp, W., et al. (2013). Effect of chemical etching on poly(methyl methacrylate) irradiated with slow highly charged ions. Physica Scripta T, 156: 014065, 1-3. doi:10.1088/0031-8949/2013/T156/014065.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0014-BB17-9 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0014-BB19-5
Genre: Konferenzbeitrag

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Ritter, Robert, Autor
Wilhelm, Richard A, Autor
Ginzel, Rainer1, Autor           
Schadauer, Philip, Autor
Heller, René, Autor
Rupp, Werner, Autor
Crespo López-Urrutia, José R.1, Autor           
Facsko, Stefan, Autor
Aumayr, Friedrich, Autor
Affiliations:
1Division Prof. Dr. Joachim H. Ullrich, MPI for Nuclear Physics, Max Planck Society, ou_904547              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2013-09-23
 Publikationsstatus: Online veröffentlicht
 Seiten: 6
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1088/0031-8949/2013/T156/014065
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: 16th International Conference on the Physics of Highly Charged Ions
Veranstaltungsort: Heidelberg
Start-/Enddatum: 2012-09-02 - 2012-09-07

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Physica Scripta T
  Andere : Phys.Scr.T
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Stockholm : Royal Swedish Academy of Sciences
Seiten: - Band / Heft: 156 Artikelnummer: 014065 Start- / Endseite: 1 - 3 Identifikator: ISSN: 0281-1847
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/110976549881403