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  The effect of magnetocrystalline anisotropy on the domain structure of patterned Fe2CrSi Heusler alloy thin films

Miyawaki, T., Foerster, M., Finizio, S., Vaz, C. A. F., Mawass, M.-A., Inagaki, K., et al. (2013). The effect of magnetocrystalline anisotropy on the domain structure of patterned Fe2CrSi Heusler alloy thin films. Journal of Applied Physcis, 114(7): 073905. doi:10.1063/1.4818800.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Miyawaki, T.1, Autor
Foerster, M.2, Autor
Finizio, S.2, Autor
Vaz, C. A. F.2, 3, Autor
Mawass, M.-A.2, 4, Autor           
Inagaki, K.1, Autor
Fukatani, N.1, Autor
Le Guyader, L.5, Autor
Nolting, F.5, Autor
Ueda, K.1, Autor
Asano, H.1, Autor
Kläui, M.2, Autor
Affiliations:
1Department of Crystalline Materials Science, Nagoya University, Nagoya 464-8603, Japan, ou_persistent22              
2Institut für Physik, Johannes Gutenberg-Universität Mainz, 55099 Mainz, Germany, ou_persistent22              
3SwissFEL, Paul Scherrer Institut, 5232 Villigen PSI, Switzerland, ou_persistent22              
4Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497648              
5Swiss Light Source, Paul Scherrer Institut, 5232 Villigen PSI, Switzerland, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: Abt. Schütz
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2013
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: 5
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1063/1.4818800
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Applied Physcis
  Kurztitel : J. Appl. Phys.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: New York, NY : American Institute of Physics
Seiten: - Band / Heft: 114 (7) Artikelnummer: 073905 Start- / Endseite: - Identifikator: ISSN: 0021-8979
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/991042723401880_1