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  Atom lithography with subwavelength resolution via Rabi oscillations

Liao, Z., Al-Amri, M., Becker, T., Schleich, W. P., Scully, M. O., & Zubairy, M. S. (2013). Atom lithography with subwavelength resolution via Rabi oscillations. Physical Review A, 87(2): 023405. doi:10.1103/PhysRevA.87.023405.

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4547.pdf (Verlagsversion), 427KB
 
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4547.pdf
Beschreibung:
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OA-Status:
Sichtbarkeit:
Eingeschränkt (Max Planck Institute of Quantum Optics, MGQO; )
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf
Technische Metadaten:
Copyright Datum:
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Copyright Info:
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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Liao, Zeyang1, Autor
Al-Amri, M.1, Autor
Becker, Thomas2, Autor           
Schleich, W. P.1, Autor
Scully, Marlan O.1, Autor
Zubairy, M. Suhail1, Autor
Affiliations:
1external, ou_persistent22              
2Laser Spectroscopy, Max Planck Institute of Quantum Optics, Max Planck Society, Hans-Kopfermann-Str. 1, 85748 Garching, DE, ou_1445568              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 20132013-02-13
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Physical Review A
  Andere : Phys. Rev. A
Genre der Quelle: Zeitschrift
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Ort, Verlag, Ausgabe: New York, NY : Published by the American Physical Society through the American Institute of Physics
Seiten: - Band / Heft: 87 (2) Artikelnummer: 023405 Start- / Endseite: - Identifikator: ISSN: 1050-2947
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925225012_2