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  Near-field lithography by two-photon-induced photocleavage of organic monolayers

Álvarez, M., Best, A., Unger, A., Alonso, J. M., del Campo, A., Schmelzeisen, M., et al. (2010). Near-field lithography by two-photon-induced photocleavage of organic monolayers. Advanced Funktional Functions, 20(24), 4265-4272. doi:10.1002/adfm.201000939.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4F50-C Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4F51-A
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Álvarez, M.1, Autor
Best, A.1, Autor
Unger, A.1, Autor
Alonso, J. M.2, Autor           
del Campo, A.2, Autor           
Schmelzeisen, M.1, Autor
Koynov, K.1, Autor
Kreiter, M.1, Autor
Affiliations:
1CIC nanoGUNE Consolider, San Sebastián, Spain, ou_persistent22              
2Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; MPI für Polymerforschung; Abt. Arzt; AK Spiess;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2010-10-15
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 532539
DOI: 10.1002/adfm.201000939
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Advanced Funktional Functions
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 20 (24) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 4265 - 4272 Identifikator: -