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  Dynamic behavior of nanometer-scale amorphous intergranular film in silicon nitride by in situ high-resolution transmission electron microscopy

Zhang, Z., Sigle, W., Koch, C. T., & Rühle, M. (2011). Dynamic behavior of nanometer-scale amorphous intergranular film in silicon nitride by in situ high-resolution transmission electron microscopy. Journal of the European Ceramic Society, 31(9), 1835-1840. doi:10.1016/j.jeurceramsoc.2011.03.016.

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Urheber

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 Urheber:
Zhang, Z., Autor           
Sigle, W.1, Autor           
Koch, C. T.1, Autor           
Rühle, M.2, Autor           
Affiliations:
1Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669              
2Dept. Metastable and Low-Dimensional Materials, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, DE, ou_1497645              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Intelligente Systeme; Stuttgart Center for Electron Microscopy (StEM); Ehem. Abt. Rühle;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2011
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 575316
DOI: 10.1016/j.jeurceramsoc.2011.03.016
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of the European Ceramic Society
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 31 (9) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 1835 - 1840 Identifikator: -