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  Influence of nonstationary atomic mixing on depth resolution in sputter depth profiling

Wang, J. Y., Liu, Y., Hofmann, S., & Kovac, J. (2012). Influence of nonstationary atomic mixing on depth resolution in sputter depth profiling. 5, 569-572. doi:10.1002/sia.3855.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4E4F-9 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4E51-1
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Wang, J. Y.1, Autor           
Liu, Y.2, Autor
Hofmann, S.3, Autor           
Kovac, J.2, Autor
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2Department of Physics, Shantou University, 243 Daxue Road, Shantou, 515063 Guangdong, China;Department of Surface Engineering and Optoelectronics F4, Jozef Stefan Institute, Jamova 39, 1000 Ljubljana, Slovenia, ou_persistent22              
3Emeriti and Others, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, DE, ou_1497650              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Intelligente Systeme; Emeriti and Others;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2012
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 574220
DOI: 10.1002/sia.3855
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: 5
Genre der Quelle: Heft
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: - Artikelnummer: - Start- / Endseite: 569 - 572 Identifikator: -

Quelle 2

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Titel: Surface and Interface Analysis
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 44 Artikelnummer: - Start- / Endseite: - Identifikator: -