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  The MRI-model in sputter depth profiling: capabilities, limitations and recent progress.

Hofmann, S., & Wang, J. Y. (2006). The MRI-model in sputter depth profiling: capabilities, limitations and recent progress. Journal of Surface Analysis, 13, 142-147.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-489C-5 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-489D-3
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Hofmann, S.1, Autor           
Wang, J. Y.1, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer; Emeriti and Others;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2006
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 335125
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Surface Analysis
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 13 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 142 - 147 Identifikator: -