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  Epitaxy and bonding of Cu films on oxygen-terminated α-Al2O3(0001) surfaces

Oh, S. H., Scheu, C., Wagner, T., Tchernychova, E., & Rühle, M. (2006). Epitaxy and bonding of Cu films on oxygen-terminated α-Al2O3(0001) surfaces. Acta Materialia, 54, 2685-2696.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Oh, S. H., Autor           
Scheu, C., Autor           
Wagner, T.1, Autor           
Tchernychova, E., Autor           
Rühle, M.2, Autor           
Affiliations:
1Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640              
2Emeriti and Others, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, DE, ou_1497650              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Emeriti and Others; Abt. Arzt; Stuttgart Center for Electron Microscopy (StEM);
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2006
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 318160
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Acta Materialia
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 54 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 2685 - 2696 Identifikator: -