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  Electron energy-loss spectroscopy study of a multilayered SiOx and SiOxCy film prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Zhang, Z., Wagner, T., Sigle, W., & Schulz, A. (2006). Electron energy-loss spectroscopy study of a multilayered SiOx and SiOxCy film prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition. Journal of Materials Research, 21, 608-612.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4805-A Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4806-8
Genre: Zeitschriftenartikel
Alternativer Titel : J. Mater. Res.

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Zhang, Z.1, Autor           
Wagner, T.2, Autor           
Sigle, W.1, 3, Autor           
Schulz, A.4, Autor
Affiliations:
1Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657              
2Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640              
3Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669              
4Institut für Plasmaforschung, Universität Stuttgart, Stuttgart, Germany, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Emeriti and Others; Stuttgart Center for Electron Microscopy (StEM); Abt. Arzt;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2006
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 292948
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Materials Research
  Alternativer Titel : J. Mater. Res.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 21 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 608 - 612 Identifikator: -