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  Backscattering effect in quantitative AES sputter depth profiling of multilayers

Hofmann, S., Wang, J. Y., & Zalar, A. (2007). Backscattering effect in quantitative AES sputter depth profiling of multilayers. Surface and Interface Analysis, 39, 787-797.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Hofmann, S.1, Autor           
Wang, J. Y.1, Autor           
Zalar, A., Autor
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer; Emeriti and Others;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2007
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 335118
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Surface and Interface Analysis
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 39 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 787 - 797 Identifikator: -