Implementing the electron backscattering factor in quantitative sputter depth 
profiling using AES

Hofmann, S.; Wang, J. Y.

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Implementing the electron backscattering factor in quantitative sputter depth profiling using AES

Hofmann, S., & Wang, J. Y. (2007). Implementing the electron backscattering factor in quantitative sputter depth profiling using AES. Surface and Interface Analysis, 39, 324-330.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-438D-2 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-438E-F

資料種別: 学術論文

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作成者:
Hofmann, S.¹, 著者
Wang, J. Y.¹, 著者

所属:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Emeriti and Others; Abt. Mittemeijer;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2007

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 318877

学位: -

訴訟

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出版物 1

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出版物名: Surface and Interface Analysis

種別: 学術雑誌

著者・編者:

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 39 通巻号: - 開始・終了ページ: 324 - 330 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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