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  Grain-boundary plane orientation dependence of electrical barriers at Σ5 boundaries in SrTiO3

Lee, S. B., Lee, J.-H., Cho, Y.-H., Kim, D.-Y., Sigle, W., Phillipp, F., et al. (2008). Grain-boundary plane orientation dependence of electrical barriers at Σ5 boundaries in SrTiO3. Acta Materialia, 56, 4993-4997.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Lee, S. B.1, Autor           
Lee, J.-H.2, Autor
Cho, Y.-H.2, Autor
Kim, D.-Y.2, Autor
Sigle, W.1, Autor           
Phillipp, F.1, Autor           
van Aken, P. A.1, Autor           
Affiliations:
1Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669              
2School of Materials Science and Engineering, Seoul National University, Seoul, South Korea;Department of Materials Science and Engineering, Korea University, Seoul, South Korea, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Stuttgart Center for Electron Microscopy (StEM);
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2008
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 379418
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Acta Materialia
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 56 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 4993 - 4997 Identifikator: -