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  Controlled fabrication of Cr/Si and Cr/SiGe tubes tethered to insulator substrates

Cavallo, F., Sigle, W., & Schmidt, O. G. (2008). Controlled fabrication of Cr/Si and Cr/SiGe tubes tethered to insulator substrates. Journal of Applied Physics, 103: 116103.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4065-3 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4066-1
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Cavallo, F.1, Autor
Sigle, W.2, 3, Autor           
Schmidt, O. G.4, Autor
Affiliations:
1Max Planck Society, ou_persistent13              
2Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657              
3Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669              
4Institute for Integrative Nanosciences, IFW Dresden, Helmholtzstrasse 20, D-01069 Dresden, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; MPI für Festkörperforschung; Stuttgart Center for Electron Microscopy (StEM);
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2008
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 367438
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Applied Physics
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 103 Artikelnummer: 116103 Start- / Endseite: - Identifikator: -