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  Prerequisites for a Cc/Cs-corrected ultrahigh-resolution TEM

Haider, M., Müller, H., Uhlemann, S., J. Zach, J., Löbau, U., & Höschen, R. (2008). Prerequisites for a Cc/Cs-corrected ultrahigh-resolution TEM. Ultramicroscopy, 108, 167-178.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Haider, M.1, Autor
Müller, H.1, Autor
Uhlemann, S.1, Autor
J. Zach, J.1, Autor
Löbau, U.1, Autor
Höschen, R.2, 3, Autor           
Affiliations:
1CEOS GmbH, Englerstr. 28, D-69126 Heidelberg, Germany, ou_persistent22              
2Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657              
3Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Stuttgart Center for Electron Microscopy (StEM);
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2008
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 362409
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Ultramicroscopy
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 108 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 167 - 178 Identifikator: -