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  Chemical bath deposition of thin TiO2-anatase films for dielectric applications

Zhou, L., Hoffmann, R. C., Zhao, Z., Bill, J., & Aldinger, F. (2008). Chemical bath deposition of thin TiO2-anatase films for dielectric applications. Thin Solid Films, 516, 7661-7666. doi:10.1016/j.tsf.2008.02.042.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Zhou, L.1, Autor           
Hoffmann, R. C.1, Autor           
Zhao, Z.2, Autor
Bill, J.3, Autor           
Aldinger, F.1, 3, Autor           
Affiliations:
1Former Dept. Materials Synthesis and Microstructure Design, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497654              
2Institut für Nichtmetallische Anorganische Materialien, Universtiät Stuttgart, Pulvermetallurgisches Laboratorium, Heisenbergstraße 3, 70569 Stuttgart, Germany; Department of Inorganic Chemistry, Arrhenius Laboratory, Stockholm University, 10691 Stockholm, Sweden, ou_persistent22              
3Universität Stuttgart, Institut für Nichtmetallische Anorganische Materialien, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Emeriti and Others; Abt. Aldinger;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2008-03-05
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 374296
DOI: 10.1016/j.tsf.2008.02.042
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Thin Solid Films
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 516 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 7661 - 7666 Identifikator: -