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  Interfacial microstructure and defect analysis in Cu(In,Ga)Se([sub]2)-based multilayered film by analytical transmission electron microscopy and focused ion beam

Zhang, Z., & Wagner, T. (2009). Interfacial microstructure and defect analysis in Cu(In,Ga)Se([sub]2)-based multilayered film by analytical transmission electron microscopy and focused ion beam. Thin Solid Films, 517(15), 4329-4335. doi:10.1016/j.tsf.2009.02.130.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Zhang, Z.1, Autor           
Wagner, T.2, Autor           
Affiliations:
1Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657              
2Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt; ZWE Dünnschichtlabor;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2009-03-05
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 435526
DOI: 10.1016/j.tsf.2009.02.130
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Thin Solid Films
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 517 (15) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 4329 - 4335 Identifikator: -