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  In-situ x-ray diffraction investigations during diffusion anneals of Ni-Cu thin film diffusion couples.

Sheng, J., Welzel, U., & Mittemeijer, E. (2010). In-situ x-ray diffraction investigations during diffusion anneals of Ni-Cu thin film diffusion couples. Advanced Materials Research, 89-1, 503-508. doi:10.4028/www.scientific.net/AMR.89-91.503.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Sheng, J.1, Autor           
Welzel, U.1, Autor           
Mittemeijer, E.J.1, 2, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2010
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 491046
DOI: 10.4028/www.scientific.net/AMR.89-91.503
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Advanced Materials Research
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 89-1 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 503 - 508 Identifikator: -