Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er 
stack for Schottky contact applications

Ratajczak, J.; Łaszcz, A.; Czerwinski, A.; Katcki, J.; Phillipp, F.; van Aken, P. A.; Reckinger, N.; Dupois, E.

doi:10.1111/j.1365-2818.2009.03264.x

Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications

Ratajczak, J., Łaszcz, A., Czerwinski, A., Katcki, J., Phillipp, F., van Aken, P. A., Reckinger, N., & Dupois, E. (2010). Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications. Journal of Microscopy, 237(3), 379-383.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3B64-A 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3B66-6

資料種別: 会議論文

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Ratajczak, J.¹, 著者
Łaszcz, A.¹, 著者
Czerwinski, A.¹, 著者
Katcki, J.¹, 著者
Phillipp, F.², 著者
van Aken, P. A.², 著者
Reckinger, N.¹, 著者
Dupois, E.¹, 著者

所属:
1Institute of Electron Technology, Al. Lotnik´ow 32/46, 02-668 Warsaw, Poland;Université catholique de Louvain, Place du Levant 3, 1348 Louvain-la-Neuve, Belgium;IEMN/ISEN, UMRS CNRS 8520, Avenue Poincare, Cite Scientifique, BP 69, 59652 Villeneuved’ Ascq Cedex, France., ou_persistent22
2Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Stuttgart Center for Electron Microscopy (StEM);

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2010

出版の状態: 出版

ページ: -

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目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 458868
DOI: 10.1111/j.1365-2818.2009.03264.x

学位: -

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出版物 1

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出版物名: Journal of Microscopy

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 237 (3) 通巻号: - 開始・終了ページ: 379 - 383 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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