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  Microstructural evolution of ion-bombarded copper thin films

Wagner, T., & Müller, D. (2000). Microstructural evolution of ion-bombarded copper thin films. In S. Moss (Ed.), Fundamental Mechanisms of Low-Energy-Beam-Modified Surface Growth and Processing (pp. 85-90). Warrendale/PA: Materials Research Society.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Wagner, T.1, Autor           
Müller, D., Autor
Affiliations:
1Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2000
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 210869
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: Fundamental Mechanisms of Low-Energy-Beam-Modified Surface Growth and Processing. Symposium
Veranstaltungsort: Boston, Mass
Start-/Enddatum: 1999-11-29 - 1999-12-01

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Fundamental Mechanisms of Low-Energy-Beam-Modified Surface Growth and Processing
Genre der Quelle: Konferenzband
 Urheber:
Moss, S., Herausgeber
Affiliations:
-
Ort, Verlag, Ausgabe: Warrendale/PA : Materials Research Society
Seiten: - Band / Heft: - Artikelnummer: - Start- / Endseite: 85 - 90 Identifikator: -

Quelle 2

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Titel: Materials Research Society Symposium Proceedings
Genre der Quelle: Reihe
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 585 Artikelnummer: - Start- / Endseite: - Identifikator: -