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  A tool for X-ray diffraction analysis of thin layers on substrates: Substrate peak removal method

Kamminga, J.-D., Delhez, R., de Keijser, T. H., & Mittemeijer, E. J. (2000). A tool for X-ray diffraction analysis of thin layers on substrates: Substrate peak removal method. Journal of Applied Crystallography, 33, 108-111.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Kamminga, J.-D., Autor
Delhez, R., Autor
de Keijser, T. H., Autor
Mittemeijer, E. J.1, 2, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2000
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 200657
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Applied Crystallography
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 33 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 108 - 111 Identifikator: -