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  Nanostructure characterization by sputter depth profiling: Approaching monolayer resolution

Hofmann, S. (2000). Nanostructure characterization by sputter depth profiling: Approaching monolayer resolution. In K. Yoshihara (Ed.), Fabrication and Characterization of Atomic Scale Structures. Proceedings of the 5th International Symposium on Advanced Physical Fields (pp. 563-569). Tsukuba/Japan: National Research Institute for Metals.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-391F-9 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3920-3
Genre: Konferenzbeitrag

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Hofmann, S.1, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2000
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 200614
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: 5th International Symposium on Advanced Physical Fields
Veranstaltungsort: Tsukuba, Japan
Start-/Enddatum: 2000-03-06 - 2000-03-09

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Fabrication and Characterization of Atomic Scale Structures. Proceedings of the 5th International Symposium on Advanced Physical Fields
Genre der Quelle: Konferenzband
 Urheber:
Yoshihara, K., Herausgeber
Affiliations:
-
Ort, Verlag, Ausgabe: Tsukuba/Japan : National Research Institute for Metals
Seiten: - Band / Heft: - Artikelnummer: - Start- / Endseite: 563 - 569 Identifikator: -