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  Rigorous mathematical models for the reconstruction of thin films profiles from X-ray intensities

Slavyanov, S., Ern, C., & Dosch, H. (2000). Rigorous mathematical models for the reconstruction of thin films profiles from X-ray intensities. In I. V. Andronov (Ed.), Proceedings of Days of Diffraction (pp. 161-167). St. Petersburg/Russia: SPbU.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-38B6-A Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-38B7-8
Genre: Konferenzbeitrag

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Slavyanov, S., Autor
Ern, C.1, Autor           
Dosch, H.1, 2, Autor           
Affiliations:
1Dept. Metastable and Low-Dimensional Materials, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497645              
2Universität Stuttgart, Institut für Theoretische und Angewandte Physik, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Dosch;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2000
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 198993
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Proceedings of Days of Diffraction
Genre der Quelle: Konferenzband
 Urheber:
Andronov, I. V., Herausgeber
Affiliations:
-
Ort, Verlag, Ausgabe: St. Petersburg/Russia : SPbU
Seiten: - Band / Heft: - Artikelnummer: - Start- / Endseite: 161 - 167 Identifikator: -