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  Atomic structure and bonding of epitaxial Cu films on (110) a-Al2O3.

Scheu, C., Stein, W., Schweinfest, R., Wagner, T., & Rühle, M. (2000). Atomic structure and bonding of epitaxial Cu films on (110) a-Al2O3. In G. Bailey (Ed.), Proceedings Microscopy and Microanalysis 2000 (pp. 182-183). New York: Springer.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3840-3 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3841-1
Genre: Konferenzbeitrag

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Scheu, C.1, Autor           
Stein, W.1, Autor           
Schweinfest, R.1, Autor           
Wagner, T.2, Autor           
Rühle, M.1, Autor           
Affiliations:
1Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657              
2Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Ehemalige Abt. Rühle; Abt. Arzt; ZWE Dünnschichtlabor;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2000
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 198894
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: Microscopy and Microanalysis 2000
Veranstaltungsort: Philadelphia, Pa.
Start-/Enddatum: 2000-08-17 - 2000-08-20

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Proceedings Microscopy and Microanalysis 2000
Genre der Quelle: Konferenzband
 Urheber:
Bailey, G.W., Herausgeber
Affiliations:
-
Ort, Verlag, Ausgabe: New York : Springer
Seiten: - Band / Heft: - Artikelnummer: - Start- / Endseite: 182 - 183 Identifikator: -