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  Electromigration damage in mechanically deformed Al conductor lines: Dislocations as fast diffusion paths

Baker, S. P., Yoo, Y. C., Knauß, M. P., & Arzt, E. (2000). Electromigration damage in mechanically deformed Al conductor lines: Dislocations as fast diffusion paths. Acta Materialia, 48, 2199-2208.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-375C-F Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-375D-D
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Baker, S. P., Autor
Yoo, Y. C., Autor
Knauß, M. P., Autor
Arzt, E.1, 2, Autor           
Affiliations:
1Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              
2Universität Stuttgart, Institut für Metallkunde, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2000
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 42973
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Acta Materialia
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 48 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 2199 - 2208 Identifikator: -