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  Chemical liquid deposition of gallium nitride thin films on siloxane-anchored self-assembled monolayers

Niesen, T. P., Puchinger, M., Gerstel, P., Rodewald, D., Wolff, J., Wagner, T., et al. (2002). Chemical liquid deposition of gallium nitride thin films on siloxane-anchored self-assembled monolayers. Materials Chemistry and Physics, 73(2-3), 301-305.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3245-D Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3246-B
Genre: Zeitschriftenartikel
Alternativer Titel : Mater. Chem. Phys.

Dateien

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:
17-ar_2002.pdf (Zusammenfassung), 60KB
 
Datei-Permalink:
-
Name:
17-ar_2002.pdf
Beschreibung:
-
OA-Status:
Sichtbarkeit:
Eingeschränkt (Max Planck Institute for Intelligent Systems, MSMT; )
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf
Technische Metadaten:
Copyright Datum:
-
Copyright Info:
eDoc_access: INSTITUT
Lizenz:
-

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Niesen, T. P.1, Autor           
Puchinger, M.2, Autor           
Gerstel, P.1, Autor           
Rodewald, D.3, Autor
Wolff, J.3, Autor
Wagner, T.4, Autor           
Bill, J.5, Autor           
Aldinger, F.1, 5, Autor           
Affiliations:
1Former Dept. Materials Synthesis and Microstructure Design, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497654              
2Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              
3Siemens & Shell Solar GmbH, D-81739 Munich, Germany; Univ Stuttgart, Pulvermet Lab, Max Planck Inst Met Forsch, D-70569 Stuttgart, Germany; Univ Stuttgart, Inst Nichtmet Anorgan Mat, D-70569 Stuttgart, Germany;, ou_persistent22              
4Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640              
5Universität Stuttgart, Institut für Nichtmetallische Anorganische Materialien, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Aldinger; Abt. Arzt; Abt. Arzt; ZWE Dünnschichtlabor; 17-ar_2002; gallium nitride (GaN); thin films; self-assembled monolayers; chemical liquid deposition; precursor pyrolysis
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2002-01-15
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 28723
ISI: 000173252100030
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Materials Chemistry and Physics
  Alternativer Titel : Mater. Chem. Phys.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 73 (2-3) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 301 - 305 Identifikator: ISSN: 0254-0584