Interfacial electronic structure of thin Cu films grown on Ar+- ion 
sputter-cleaned α-Al2O3 substrates

Scheu, C.; Gao, M.; Rühle, M.

Interfacial electronic structure of thin Cu films grown on Ar+- ion sputter-cleaned α-Al₂O₃ substrates

Scheu, C., Gao, M., & Rühle, M. (2002). Interfacial electronic structure of thin Cu films grown on Ar+- ion sputter-cleaned α-Al₂O₃ substrates. Journal of Materials Science & Technology, 18(2), 117-120.

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資料種別: 学術論文

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Scheu, C.¹, 著者
Gao, M.¹, 著者
Rühle, M.¹, 著者

所属:
1Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Rühle; electronic structure; Cu film; ion sputtering; alpha-Al2O3

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言語: eng - English

日付: 出版: 2002-03

出版の状態: 出版

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査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 6889
ISI: 000174881400006

学位: -

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出版物名: Journal of Materials Science & Technology

出版物の別名 : J. Mater. Sci. Technol.

種別: 学術雑誌

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ページ: - 巻号: 18 (2) 通巻号: - 開始・終了ページ: 117 - 120 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 1005-0302

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