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  Interfacial electronic structure of thin Cu films grown on Ar+- ion sputter-cleaned α-Al2O3 substrates

Scheu, C., Gao, M., & Rühle, M. (2002). Interfacial electronic structure of thin Cu films grown on Ar+- ion sputter-cleaned α-Al2O3 substrates. Journal of Materials Science & Technology, 18(2), 117-120.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-31ED-C Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-31EE-A
Genre: Zeitschriftenartikel
Alternativer Titel : J. Mater. Sci. Technol.

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:
13-ru_2002.pdf.pdf (Zusammenfassung), 9KB
 
Datei-Permalink:
-
Name:
13-ru_2002.pdf.pdf
Beschreibung:
-
OA-Status:
Sichtbarkeit:
Eingeschränkt (Max Planck Institute for Intelligent Systems, MSMT; )
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf
Technische Metadaten:
Copyright Datum:
-
Copyright Info:
eDoc_access: INSTITUT
Lizenz:
-

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Scheu, C.1, Autor           
Gao, M.1, Autor           
Rühle, M.1, Autor           
Affiliations:
1Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Rühle; electronic structure; Cu film; ion sputtering; alpha-Al2O3
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2002-03
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 6889
ISI: 000174881400006
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Materials Science & Technology
  Alternativer Titel : J. Mater. Sci. Technol.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 18 (2) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 117 - 120 Identifikator: ISSN: 1005-0302